华盛顿多年来一直试图阻止的东西可能在中国深圳的实验室诞生，路透社报道，中国科技人员在深圳一家高度戒备的实验室里制造出一台能够生产尖端半导体芯片的光刻机原型机。
报道援引消息人士称，这台由荷兰阿斯麦(ASML)前工程师团队于2025年初制造的机器正在进行测试，并成功产生了极紫外线，但尚未生产出可用的芯片。据指这些工程师对ASML的极紫外光刻机(EUV)进行了逆向工程。
迄今为止，只有位于荷兰费尔德霍芬的ASML公司掌握EUV技术。其设备对于制造英伟达和AMD等公司设计的、以及台积电、英特尔和三星等芯片制造商生产的最先进芯片至关重要。
极紫外光刻机是美中科技战的核心，它利用极紫外光束在硅晶圆上蚀刻出比头发丝细数千倍的电路，西方目前垄断着这一技术。
ASML首席执行官富凯今年4月表示，中国需要“很多很多年”才能研发出这一技术，但路透社的报道显示，中国在实现半导体自主方面可能比分析师预期的要快得多。
路透社援引的两位知情人士透露，中国在二手市场获得旧款ASML机器的零部件，得以最终制造出国产原型机。北京的目标是在2028年在这一原型机上生产出可用的芯片，但了解这一项目的人认为，2030年实现这一目标比较现实。
深圳的极紫外光刻机项目一直秘密进行，路透社援引三位消息人士称，华为在协调遍布全国的公司和国家科研机构网络中发挥着关键作用。
这一秘密计划被形容为中国版的曼哈顿计划，即美国在二战期间研制原子弹的计划。这一计划极其保密，一位拥有阿斯麦背景的资深中国工程师对他获得的高额签约奖金感到惊讶，更意外的是他收到的身份卡使用了假名。
这位人士进入试验室后，认出了其他几位前ASML同事，他们也都使用假名工作，他被要求在工作中必须使用假名以保密。另一名知情人士也独立证实，新员工会被发放假身份卡，以向其他员工隐瞒真实身份。
两位人士披露，相关指示很明确：由于项目被列为国家安全项目，任何人都不能透露他们正在建造什么，甚至不能透露他们身在此地。
知情人士透露，该团队包括近期退休的华裔前 ASML 工程师和科学家——他们是主要的招聘目标，
两名目前在荷兰工作的华裔ASML员工告诉路透社，至少从2020年起，华为招聘人员一直在接触他们。
荷兰情报部门在 4 月份的一份报告中警告说，中国“利用广泛的间谍活动，试图从西方国家获取先进技术和知识”，包括招募“西方科学家和高科技公司的员工”。
ASML告诉路透社，该公司“严密保护”商业秘密和机密信息，但目前无法确定是否已对参与中国光刻项目的前ASML员工采取任何法律行动。
中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
（深圳路透电）据消息人士透露，中国科学家今年初在深圳一座高度保密的实验室，打造出一台极紫外光刻机（EUV）的原型机，目前正在测试阶段。这项被形容为中国的“曼哈顿计划”，目标是要让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片。
路透社星期四（12月18日）引述两名知情人士的消息报道，称这台原型机由荷兰半导体巨头阿斯麦（ASML）的前工程师团队，通过逆向工程开发而成。这台设备已经可以运作并成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的晶片。
目前全世界只有阿斯麦掌握了极紫外光刻机的技术。今年4月，阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）表示，中国还需要“许多、许多年”才能掌握这类技术。
随着中国科学家已经成功打造出一台原型机，路透社报道指中国实现半导体自主的进程，可能比分析师预期的要快上好几年。
中国依旧面临的重大技术挑战，是复制西方供应商生产的精密光学系统。据两位知情人士透露，研发团队从二手市场上的阿斯麦旧设备取得零部件，成功打造原型机。
中国计划在2028年前，利用国产极紫外光刻机，生产出可用的晶片。但接近这个项目的人士表示，要到2030年才能实现；这仍比分析师预估所需的10年时间提前几年。
这个项目属于中国半导体战略的一环，由中共政治局常委、科技委员会主任丁薛祥负责统筹。据两位知情人士及第三方消息来源透露，华为协助在全国范围内协调企业与科研机构的数千名工程师，发挥着关键作用。
知情人士指这个项目堪称中国的“曼哈顿计划”，后者是美国当年为研制原子弹而实施的战时计划。其中一位人士表示，“目标是让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片，并且将美国全面踢出中国的供应链。”
华为、中国国务院、中国驻华盛顿大使馆及中国工业和信息化部，均未回应路透社相关询问。
路透社星期四（12月18日）引述两名知情人士的消息报道，称这台原型机由荷兰半导体巨头阿斯麦（ASML）的前工程师团队，通过逆向工程开发而成。这台设备已经可以运作并成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的晶片。
目前全世界只有阿斯麦掌握了极紫外光刻机的技术。今年4月，阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）表示，中国还需要“许多、许多年”才能掌握这类技术。
随着中国科学家已经成功打造出一台原型机，路透社报道指中国实现半导体自主的进程，可能比分析师预期的要快上好几年。
中国依旧面临的重大技术挑战，是复制西方供应商生产的精密光学系统。据两位知情人士透露，研发团队从二手市场上的阿斯麦旧设备取得零部件，成功打造原型机。
中国计划在2028年前，利用国产极紫外光刻机，生产出可用的晶片。但接近这个项目的人士表示，要到2030年才能实现；这仍比分析师预估所需的10年时间提前几年。
这个项目属于中国半导体战略的一环，由中共政治局常委、科技委员会主任丁薛祥负责统筹。据两位知情人士及第三方消息来源透露，华为协助在全国范围内协调企业与科研机构的数千名工程师，发挥着关键作用。
知情人士指这个项目堪称中国的“曼哈顿计划”，后者是美国当年为研制原子弹而实施的战时计划。其中一位人士表示，“目标是让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片，并且将美国全面踢出中国的供应链。”
华为、中国国务院、中国驻华盛顿大使馆及中国工业和信息化部，均未回应路透社相关询问。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
中国共有三个机构接到了光刻机研发任务，分别为中国电科，上海微电，长春光机所。
上海微电，中国电科都是在突破DUV光刻机，而长春光机所是EUV光刻机。
上海微电子在2021年正式推出28纳米DUV光刻机，长春的EUV光刻机，什么情况了，目前是曝光系统，光源自动校正进行优化。
曝光光学系统有光刻机“心脏”之称，是光刻机技术难度的集中体现，长春国科精密在2018年就通过了面向90纳米节点的光学系统验收。目前正向28纳米节点的光学系统攻关。2021年可以取得突破。
中国EUV光刻机能不能突破，就看长春国科精密给不给力了，那时长春光机所唯一的上市平台，奥普光电，也将水涨船高。
EUV的难点：
（1） DUV波长193纳米，EUV光源的波长为13.5纳米，波长越短，所能实现的分辨率越高。
（2） DUV光路主要利用光的折射原理。浸没式填入去离子水，EUV光刻机内部必须为真空操作。
（3） EUV光刻机镜头难度更大。
北京国望，是长春光机所合并组织的企业，法人代表长春人。
上海微电，中国电科都是在突破DUV光刻机，而长春光机所是EUV光刻机。
上海微电子在2021年正式推出28纳米DUV光刻机，长春的EUV光刻机，什么情况了，目前是曝光系统，光源自动校正进行优化。
曝光光学系统有光刻机“心脏”之称，是光刻机技术难度的集中体现，长春国科精密在2018年就通过了面向90纳米节点的光学系统验收。目前正向28纳米节点的光学系统攻关。2021年可以取得突破。
中国EUV光刻机能不能突破，就看长春国科精密给不给力了，那时长春光机所唯一的上市平台，奥普光电，也将水涨船高。
EUV的难点：
（1） DUV波长193纳米，EUV光源的波长为13.5纳米，波长越短，所能实现的分辨率越高。
（2） DUV光路主要利用光的折射原理。浸没式填入去离子水，EUV光刻机内部必须为真空操作。
（3） EUV光刻机镜头难度更大。
北京国望，是长春光机所合并组织的企业，法人代表长春人。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
瑞银集团分析师预计，中国半导体制造能力未来十年内可能仍难取得足够进展，以开发出可替代阿斯麦（ASML）尖端极紫外光刻（EUV）技术的可行方案。
2026年9月2日 08:37
据彭博社报道，瑞银分析师在一份报告中写道：“它们（中国）目前的发展阶段，似乎与阿斯麦2004年时相近。”
北京一直向国内晶片产业投入国家资本，以实现自给自足。不过，美国主导的尖端晶片制造设备出口限制，阻碍了这一进程。
总部位于荷兰的阿斯麦，是全球唯一一家生产先进光刻机的厂商，这类设备对于制造先进半导体至关重要。中国是阿斯麦的主要市场之一，但这家晶片设备巨头被禁止向中国出售极紫外光刻设备。
瑞银分析师根据专利活动，尤其是光源和激光子系统方面的专利判断，中国目前的技术成熟度与阿斯麦开始量产极紫外光刻设备前15年时相当。
分析师说：“考虑到中国光刻设备在良率和吞吐量方面可能与阿斯麦存在差距，加上监管限制，我们认为中国光刻设备不太可能在中国境外投入使用。”
尽管如此，瑞银预计，中国将在两到五年内具备大规模制造浸没式深紫外（DUV）光刻机的能力。虽然浸没式深紫外光刻机不如极紫外系统先进，但仍是晶片制造的关键设备，通过光线将复杂的电路图案印制到硅晶圆上。
彭博社报道，阿斯麦的浸没式深紫外光刻机售价接近9000万美元（约1.15亿新元）。相比之下，先进的极紫外光刻设备每台售价超过2亿美元。
此前，路透社7月28日引述消息人士证实中国开始生产国产DUV，并点名仅创立三年的上海爱晟纳电子科技集团，在整合来自中国顶尖光刻初创公司的团队后，正领导生产工作。
2026年9月2日 08:37
据彭博社报道，瑞银分析师在一份报告中写道：“它们（中国）目前的发展阶段，似乎与阿斯麦2004年时相近。”
北京一直向国内晶片产业投入国家资本，以实现自给自足。不过，美国主导的尖端晶片制造设备出口限制，阻碍了这一进程。
总部位于荷兰的阿斯麦，是全球唯一一家生产先进光刻机的厂商，这类设备对于制造先进半导体至关重要。中国是阿斯麦的主要市场之一，但这家晶片设备巨头被禁止向中国出售极紫外光刻设备。
瑞银分析师根据专利活动，尤其是光源和激光子系统方面的专利判断，中国目前的技术成熟度与阿斯麦开始量产极紫外光刻设备前15年时相当。
分析师说：“考虑到中国光刻设备在良率和吞吐量方面可能与阿斯麦存在差距，加上监管限制，我们认为中国光刻设备不太可能在中国境外投入使用。”
尽管如此，瑞银预计，中国将在两到五年内具备大规模制造浸没式深紫外（DUV）光刻机的能力。虽然浸没式深紫外光刻机不如极紫外系统先进，但仍是晶片制造的关键设备，通过光线将复杂的电路图案印制到硅晶圆上。
彭博社报道，阿斯麦的浸没式深紫外光刻机售价接近9000万美元（约1.15亿新元）。相比之下，先进的极紫外光刻设备每台售价超过2亿美元。
此前，路透社7月28日引述消息人士证实中国开始生产国产DUV，并点名仅创立三年的上海爱晟纳电子科技集团，在整合来自中国顶尖光刻初创公司的团队后，正领导生产工作。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
测序仪和光刻机，作为生命科学与半导体领域的“国之重器”，其发展之路充满艰辛与挑战。从专利争夺战到科技冷战，再到光学技术的精密支撑，每一步都凝聚着无数科研人员的心血与智慧。中科院长春光机所作为光学技术的中流砥柱，以其卓越的科研实力和创新精神，为国产测序仪和光刻机的崛起提供了坚实保障。在未来的科技竞争中，我们期待更多的“国之重器”在光学技术的助力下，闪耀世界科技舞台，为国家的繁荣与发展注入源源不断的动力。
测序仪和光刻机，分别是生命科学与半导体领域的两大“国之重器”。
虽然它们的用途不同，一个帮我们破解生命的密码，一个用来“画”出手机和电脑里那些复杂到肉眼都看不见的芯片电路。但确实值得放在一起来说说，因为测序仪和光刻机有着战略上的许多相似之处，而且它们背后有一个相同的幕后功臣。
首先，它们背后都有一场场激烈的专利争夺战，核心就是抢占技术制高点。
基因测序技术从第一代到如今的高通量测序，专利战几乎贯穿整个发展史。以二代测序为例，2000年代，两大巨头Illumina和Life Tech展开了激烈竞争。Illumina的“边合成边测序”技术和Life Tech的半导体测序技术，都通过专利布局拼命圈地。它们互相起诉，官司打了几年，最后以和解收场。专利战的目的不只是保护技术，更是为了垄断市场。像Illumina一度占据全球测序市场70%以上的份额，靠的就是专利“护城河”。
后来者如中国的华大智造，另辟蹊径搞自主研发，试图避开专利雷区，也依然免不了在2019年开始被Illumina起诉，尽管诉讼最终达成和解，Illumina其后又开始加大游说力度，使美国国会进一步通过法案限制华大等中国公司，直至中国商务部今年的反击，在隐忍多年后，给出了对Illumina禁止进口到中国的裁决。
光刻机的专利战更像是一场“光学霸权”争夺战。荷兰ASML是当今光刻机领域的绝对霸主，但它的崛起背后也有专利博弈。尼康和ASML曾在浸润式光刻技术上爆发专利纠纷，双方在美国、日本等地提起多起诉讼。后来，由于EUV技术的专利壁垒太高，加上美国的技术授权限制，日本厂商逐渐退出竞争。
其次，测序仪和光刻机都深深卷入了近年来的科技冷战，贸易摩擦直接影响了它们的全球供应链和市场布局。
测序仪的贸易摩擦更多围绕数据安全和生物安全。基因数据被认为是战略资源，美国对中国测序企业的关注从2010年代就开始了。无论是“实体清单”还是《生物安全法》，这些摩擦表面是贸易问题，背后是对基因科技主导权的争夺。
而光刻机的贸易摩擦简直就是科技冷战的缩影。美国从2018年起，通过出口管制法案（ECRA）和“实体清单”，限制ASML向中国出售EUV光刻机。2020年，美国进一步施压荷兰政府，禁止ASML向中国出口高端设备，理由是“国家安全”。
更重要的是，测序仪和光刻机在战略上的重要性，怎么强调都不为过。它们不只是设备，更是科技主权的象征。
基因测序被认为是未来医疗、农业甚至国防的基石。掌握测序技术，等于握住了生物科技的“钥匙”。大国竞争中，谁能快速、低成本地测出基因序列，谁就能在精准医疗、生物武器防御上占先机。比如，美国通过Illumina等企业，试图主导全球基因数据库，掌控数据话语权。中国则靠华大智造等公司，力争在测序设备和数据分析上实现自主可控，避免基因资源外流。这种竞争表面是技术，实则是对未来生命科技制高点的争夺。
光刻机是芯片制造的核心，直接决定了芯片性能和产量。现代社会，从手机到导弹，几乎啥都离不开芯片。所以，光刻机的战略地位简直是“工业命脉”。目前，ASML的EUV光刻机全球独一份，美国通过控制ASML，间接掐住了全球芯片供应链的脖子。中国要发展高端芯片，必须突破光刻机技术，否则只能在低端市场打转。
测序仪决定生物科技的未来话语权，光刻机掌控信息科技的命根子，两者都是大国竞争中“谁也输不起”的赛道。
而更巧的是，这两件神器背后，有个共同的“大功臣”——精密的光学技术。
先来说说测序仪，简单点说，它就是一台“读”DNA的机器。想象DNA像一串长长的字母链，上面写满了A、T、C、G这些“密码”。测序仪先把DNA剪成小段，复制很多份，然后粘在一个小芯片上。接着，它用一种带荧光“标签”的化学物质，像是给每个字母点上彩色小灯。激光一照，这些小灯就亮起来，不同字母亮不同颜色，仪器里的相机“咔嚓”一拍，把这些光信号记下来。电脑再把这些彩色信号翻译成字母，拼出一长串DNA序列。这过程就像是用灯和相机把生命密码一行行“拍”下来，变成我们能读懂的东西。
再来看光刻机，它是造芯片的“大手艺人”。芯片上那些细得连用显微镜都看起来费劲的电路，就是光刻机“画”出来的。它的原理有点像老式幻灯片投影仪：先有个光源，射出特别强的光，比如深紫外光或者极紫外光；光透过一个刻着电路图案的“模板”（专业名叫掩模），再通过一堆精密透镜，把图案缩小，投到涂了感光胶的硅片上。感光胶被光一照，性质就变了，之后再用化学方法“洗”掉一部分，留下电路的形状，最后再刻一层层，叠出一个完整的芯片。整个过程就像是用光在硅片上“印”蓝图，细到几纳米，比头发丝还薄几万倍。
测序仪和光刻机虽然干的活儿完全不同，但它们都离不开光学技术。比如，两者都需要特别精准的透镜，测序仪得靠它清楚地“拍”下微弱的荧光信号，光刻机得用它把电路图案缩到纳米级还不能走样。它们还都得用上稳定的激光，光刻机用激光“画”线，测序仪用激光“点亮”DNA信号。还有，测序仪和光刻机都得有灵敏的相机或者探测器，专门捕捉光信号，测序仪用它看荧光颜色，光刻机用它检查图案有没有偏差。总之，光学系统在这两台机器里，就像是它们的“眼睛”和“手”，得又准又稳。
说到光学技术的硬核支持，国内有个地方不得不提——中科院长春光机所。
中科院长春光机所，全名叫中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，是个在光学领域响当当的地方，号称“中国光学的摇篮”。
长春光机所的故事得从1952年说起。那时候新中国刚成立没几年，科技基础还很薄弱，国家急需搞科研的地方。1952年，在吉林长春，一群科学家和工人一起收拾出一片地儿，准备建个研究所，这就是长春光机所的前身——中国科学院仪器馆。当时的条件可没现在这么好，科学家们自己动手平地、填坑，硬是把这地方建起来了。
研究所的创始人之一是王大珩院士，他可是中国光学界的“大牛”。在他的带领下，长春光机所从一开始就瞄准了光学和精密机械，目标是为国家的工业和国防搞出点真家伙。1950年代到1960年代，长春光机所参与了不少大事儿，比如“两弹一星”工程，他们造出了高精度的光学仪器，帮着导弹和卫星瞄准目标，立了大功。
1999年，长春光机所和长春物理所合并，成了现在的样子。从建所到今天，70多年过去，长春光机所一直是国内光学研究的“顶梁柱”，创造了一堆“中国第一”：第一台红宝石激光器、第一台大口径光学望远镜、第一套导弹光学制导系统……这些成果听着就挺牛，实际也真挺牛。
长春光机所在光学和精密机械领域攒了不少绝活儿。
长春光机所最擅长的就是造各种能“看”东西的仪器。他们搞出了很多高精度的光学设备，比如大口径望远镜，能看得比谁都远，装在卫星上能拍地球的“高清写真”。还有显微镜，能看到细胞甚至更小的玩意儿。这些技术不光用在科研上，还用在工业检测、医疗设备里，帮着医生看清楚病人体内的“小毛病”。
说到激光，长春光机所可是国内的“老前辈”。他们1960年代就搞出了中国第一台红宝石激光器，后来又研发了一堆更厉害的激光设备。现在，他们的激光技术用在各种地方：工业上能切金属跟切豆腐似的，医学上能拿来做手术，连国防上都能用来搞激光武器或者精确制导。总之，激光这块，他们玩得挺溜。
长春光机所在空间光学上也有一手。简单说，就是给卫星、飞船装上能看清东西的“眼睛”。比如“嫦娥”探月工程、“神舟”飞船上的一些光学设备，就有他们的手笔。他们造的星载相机，能从几百公里外拍地面，假如排除大气干扰等限制，连车牌号都能看清。这些技术直接帮国家在航天领域站稳了脚跟。
除了光学，长春光机所还特别擅长精密机械。啥叫精密？就是细到你想象不到的地步。他们能造出误差不到1纳米的零件（1纳米等于10亿分之一米），这种精度在造光刻机、测序仪这些高精设备时特别关键。他们还搞过不少机械手、自动化设备，帮工厂把生产效率提上来。
光电探测是长春光机所的另一大强项。简单说，就是能抓住光信号，转成电信号，再分析出来。他们做的高灵敏度探测器，能捕捉到特别微弱的光，比如测序仪里用的CMOS传感器，能“看”到DNA发出的荧光信号。这些技术在基因测序、夜视仪、遥感卫星上都有大用处。
长春光机所的技术可不只是“高冷”的实验室玩意儿，他们特别会把技术变成真能用的东西。早年主要是给国防干活，帮着造导弹、卫星的瞄准系统。后来慢慢转到民用领域，比如帮着企业造医疗仪器、工业激光设备，还跟华大智造、国望光学这些公司合作，把光学技术用在基因测序和芯片制造上。
比如光刻机的光源系统，难度特别大，尤其是极紫外光源，波长短到只有13.5纳米，还得功率高、稳定性好。长春光机所就在这方面使劲钻研，搞出了超平整的反射镜和平面镜，平到误差不到1纳米，帮国产光刻机光源系统打下了基础。他们还在深紫外光源的稳定性上下了狠功夫，让国产设备少走不少弯路。
还有个厉害的，就是高端CMOS相机芯片，这种芯片在测序仪和光刻机里都少不了。测序仪用它拍荧光信号，光刻机用它检查对准误差。长春光机所开发的高性能CMOS芯片，特别灵敏，还不容易受干扰，帮测序仪看清微弱的光，也让光刻机的对准更准。这些技术可不是光在实验室里玩，他们还和企业合作，把成果变成了真能用的东西。
比如说，长春光机所他们和华大智造合作，这家企业是国内基因测序的“大牛”。华大智造的高通量测序仪对光学要求特别高，长春光机所就帮他们弄了高精度的镜头和激光系统，让设备性能直追国际水平。再比如和国望光学的合作，国望是搞高端光学元件的，他们一起攻关光刻机用的曝光光学系统，搞出了面向28纳米工艺的设备，填了国内空白。通过这些产学研合作，长春光机所直接让许多国产设备硬气了不少。
长春光机所还特别擅长把技术变成产品。他们的高精度光学加工技术，已经用在国产光刻机和测序仪的核心零件上了，激光技术也用到了各种精密制造里。这些成果不仅让国内企业少花冤枉钱买进口货，还拉动了一整条产业链。可以说，长春光机所在光学这块，给“专精特新”四个字做了个硬核注解。
测序仪和光刻机这两件“国之重器”，背后都站着光学技术这么个“超级英雄”。而长春光机所就像是给英雄打造装备的“大匠”，从实验室到工厂，从技术到产品，一步步让中国在这两大赛道上站得更稳，走得更远。在未来的科技竞争中，我们期待更多的“国之重器”在光学技术的助力下，闪耀世界科技舞台，为国家的繁荣与发展注入源源不断的动力。
测序仪和光刻机，分别是生命科学与半导体领域的两大“国之重器”。
虽然它们的用途不同，一个帮我们破解生命的密码，一个用来“画”出手机和电脑里那些复杂到肉眼都看不见的芯片电路。但确实值得放在一起来说说，因为测序仪和光刻机有着战略上的许多相似之处，而且它们背后有一个相同的幕后功臣。
首先，它们背后都有一场场激烈的专利争夺战，核心就是抢占技术制高点。
基因测序技术从第一代到如今的高通量测序，专利战几乎贯穿整个发展史。以二代测序为例，2000年代，两大巨头Illumina和Life Tech展开了激烈竞争。Illumina的“边合成边测序”技术和Life Tech的半导体测序技术，都通过专利布局拼命圈地。它们互相起诉，官司打了几年，最后以和解收场。专利战的目的不只是保护技术，更是为了垄断市场。像Illumina一度占据全球测序市场70%以上的份额，靠的就是专利“护城河”。
后来者如中国的华大智造，另辟蹊径搞自主研发，试图避开专利雷区，也依然免不了在2019年开始被Illumina起诉，尽管诉讼最终达成和解，Illumina其后又开始加大游说力度，使美国国会进一步通过法案限制华大等中国公司，直至中国商务部今年的反击，在隐忍多年后，给出了对Illumina禁止进口到中国的裁决。
光刻机的专利战更像是一场“光学霸权”争夺战。荷兰ASML是当今光刻机领域的绝对霸主，但它的崛起背后也有专利博弈。尼康和ASML曾在浸润式光刻技术上爆发专利纠纷，双方在美国、日本等地提起多起诉讼。后来，由于EUV技术的专利壁垒太高，加上美国的技术授权限制，日本厂商逐渐退出竞争。
其次，测序仪和光刻机都深深卷入了近年来的科技冷战，贸易摩擦直接影响了它们的全球供应链和市场布局。
测序仪的贸易摩擦更多围绕数据安全和生物安全。基因数据被认为是战略资源，美国对中国测序企业的关注从2010年代就开始了。无论是“实体清单”还是《生物安全法》，这些摩擦表面是贸易问题，背后是对基因科技主导权的争夺。
而光刻机的贸易摩擦简直就是科技冷战的缩影。美国从2018年起，通过出口管制法案（ECRA）和“实体清单”，限制ASML向中国出售EUV光刻机。2020年，美国进一步施压荷兰政府，禁止ASML向中国出口高端设备，理由是“国家安全”。
更重要的是，测序仪和光刻机在战略上的重要性，怎么强调都不为过。它们不只是设备，更是科技主权的象征。
基因测序被认为是未来医疗、农业甚至国防的基石。掌握测序技术，等于握住了生物科技的“钥匙”。大国竞争中，谁能快速、低成本地测出基因序列，谁就能在精准医疗、生物武器防御上占先机。比如，美国通过Illumina等企业，试图主导全球基因数据库，掌控数据话语权。中国则靠华大智造等公司，力争在测序设备和数据分析上实现自主可控，避免基因资源外流。这种竞争表面是技术，实则是对未来生命科技制高点的争夺。
光刻机是芯片制造的核心，直接决定了芯片性能和产量。现代社会，从手机到导弹，几乎啥都离不开芯片。所以，光刻机的战略地位简直是“工业命脉”。目前，ASML的EUV光刻机全球独一份，美国通过控制ASML，间接掐住了全球芯片供应链的脖子。中国要发展高端芯片，必须突破光刻机技术，否则只能在低端市场打转。
测序仪决定生物科技的未来话语权，光刻机掌控信息科技的命根子，两者都是大国竞争中“谁也输不起”的赛道。
而更巧的是，这两件神器背后，有个共同的“大功臣”——精密的光学技术。
先来说说测序仪，简单点说，它就是一台“读”DNA的机器。想象DNA像一串长长的字母链，上面写满了A、T、C、G这些“密码”。测序仪先把DNA剪成小段，复制很多份，然后粘在一个小芯片上。接着，它用一种带荧光“标签”的化学物质，像是给每个字母点上彩色小灯。激光一照，这些小灯就亮起来，不同字母亮不同颜色，仪器里的相机“咔嚓”一拍，把这些光信号记下来。电脑再把这些彩色信号翻译成字母，拼出一长串DNA序列。这过程就像是用灯和相机把生命密码一行行“拍”下来，变成我们能读懂的东西。
再来看光刻机，它是造芯片的“大手艺人”。芯片上那些细得连用显微镜都看起来费劲的电路，就是光刻机“画”出来的。它的原理有点像老式幻灯片投影仪：先有个光源，射出特别强的光，比如深紫外光或者极紫外光；光透过一个刻着电路图案的“模板”（专业名叫掩模），再通过一堆精密透镜，把图案缩小，投到涂了感光胶的硅片上。感光胶被光一照，性质就变了，之后再用化学方法“洗”掉一部分，留下电路的形状，最后再刻一层层，叠出一个完整的芯片。整个过程就像是用光在硅片上“印”蓝图，细到几纳米，比头发丝还薄几万倍。
测序仪和光刻机虽然干的活儿完全不同，但它们都离不开光学技术。比如，两者都需要特别精准的透镜，测序仪得靠它清楚地“拍”下微弱的荧光信号，光刻机得用它把电路图案缩到纳米级还不能走样。它们还都得用上稳定的激光，光刻机用激光“画”线，测序仪用激光“点亮”DNA信号。还有，测序仪和光刻机都得有灵敏的相机或者探测器，专门捕捉光信号，测序仪用它看荧光颜色，光刻机用它检查图案有没有偏差。总之，光学系统在这两台机器里，就像是它们的“眼睛”和“手”，得又准又稳。
说到光学技术的硬核支持，国内有个地方不得不提——中科院长春光机所。
中科院长春光机所，全名叫中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，是个在光学领域响当当的地方，号称“中国光学的摇篮”。
长春光机所的故事得从1952年说起。那时候新中国刚成立没几年，科技基础还很薄弱，国家急需搞科研的地方。1952年，在吉林长春，一群科学家和工人一起收拾出一片地儿，准备建个研究所，这就是长春光机所的前身——中国科学院仪器馆。当时的条件可没现在这么好，科学家们自己动手平地、填坑，硬是把这地方建起来了。
研究所的创始人之一是王大珩院士，他可是中国光学界的“大牛”。在他的带领下，长春光机所从一开始就瞄准了光学和精密机械，目标是为国家的工业和国防搞出点真家伙。1950年代到1960年代，长春光机所参与了不少大事儿，比如“两弹一星”工程，他们造出了高精度的光学仪器，帮着导弹和卫星瞄准目标，立了大功。
1999年，长春光机所和长春物理所合并，成了现在的样子。从建所到今天，70多年过去，长春光机所一直是国内光学研究的“顶梁柱”，创造了一堆“中国第一”：第一台红宝石激光器、第一台大口径光学望远镜、第一套导弹光学制导系统……这些成果听着就挺牛，实际也真挺牛。
长春光机所在光学和精密机械领域攒了不少绝活儿。
长春光机所最擅长的就是造各种能“看”东西的仪器。他们搞出了很多高精度的光学设备，比如大口径望远镜，能看得比谁都远，装在卫星上能拍地球的“高清写真”。还有显微镜，能看到细胞甚至更小的玩意儿。这些技术不光用在科研上，还用在工业检测、医疗设备里，帮着医生看清楚病人体内的“小毛病”。
说到激光，长春光机所可是国内的“老前辈”。他们1960年代就搞出了中国第一台红宝石激光器，后来又研发了一堆更厉害的激光设备。现在，他们的激光技术用在各种地方：工业上能切金属跟切豆腐似的，医学上能拿来做手术，连国防上都能用来搞激光武器或者精确制导。总之，激光这块，他们玩得挺溜。
长春光机所在空间光学上也有一手。简单说，就是给卫星、飞船装上能看清东西的“眼睛”。比如“嫦娥”探月工程、“神舟”飞船上的一些光学设备，就有他们的手笔。他们造的星载相机，能从几百公里外拍地面，假如排除大气干扰等限制，连车牌号都能看清。这些技术直接帮国家在航天领域站稳了脚跟。
除了光学，长春光机所还特别擅长精密机械。啥叫精密？就是细到你想象不到的地步。他们能造出误差不到1纳米的零件（1纳米等于10亿分之一米），这种精度在造光刻机、测序仪这些高精设备时特别关键。他们还搞过不少机械手、自动化设备，帮工厂把生产效率提上来。
光电探测是长春光机所的另一大强项。简单说，就是能抓住光信号，转成电信号，再分析出来。他们做的高灵敏度探测器，能捕捉到特别微弱的光，比如测序仪里用的CMOS传感器，能“看”到DNA发出的荧光信号。这些技术在基因测序、夜视仪、遥感卫星上都有大用处。
长春光机所的技术可不只是“高冷”的实验室玩意儿，他们特别会把技术变成真能用的东西。早年主要是给国防干活，帮着造导弹、卫星的瞄准系统。后来慢慢转到民用领域，比如帮着企业造医疗仪器、工业激光设备，还跟华大智造、国望光学这些公司合作，把光学技术用在基因测序和芯片制造上。
比如光刻机的光源系统，难度特别大，尤其是极紫外光源，波长短到只有13.5纳米，还得功率高、稳定性好。长春光机所就在这方面使劲钻研，搞出了超平整的反射镜和平面镜，平到误差不到1纳米，帮国产光刻机光源系统打下了基础。他们还在深紫外光源的稳定性上下了狠功夫，让国产设备少走不少弯路。
还有个厉害的，就是高端CMOS相机芯片，这种芯片在测序仪和光刻机里都少不了。测序仪用它拍荧光信号，光刻机用它检查对准误差。长春光机所开发的高性能CMOS芯片，特别灵敏，还不容易受干扰，帮测序仪看清微弱的光，也让光刻机的对准更准。这些技术可不是光在实验室里玩，他们还和企业合作，把成果变成了真能用的东西。
比如说，长春光机所他们和华大智造合作，这家企业是国内基因测序的“大牛”。华大智造的高通量测序仪对光学要求特别高，长春光机所就帮他们弄了高精度的镜头和激光系统，让设备性能直追国际水平。再比如和国望光学的合作，国望是搞高端光学元件的，他们一起攻关光刻机用的曝光光学系统，搞出了面向28纳米工艺的设备，填了国内空白。通过这些产学研合作，长春光机所直接让许多国产设备硬气了不少。
长春光机所还特别擅长把技术变成产品。他们的高精度光学加工技术，已经用在国产光刻机和测序仪的核心零件上了，激光技术也用到了各种精密制造里。这些成果不仅让国内企业少花冤枉钱买进口货，还拉动了一整条产业链。可以说，长春光机所在光学这块，给“专精特新”四个字做了个硬核注解。
测序仪和光刻机这两件“国之重器”，背后都站着光学技术这么个“超级英雄”。而长春光机所就像是给英雄打造装备的“大匠”，从实验室到工厂，从技术到产品，一步步让中国在这两大赛道上站得更稳，走得更远。在未来的科技竞争中，我们期待更多的“国之重器”在光学技术的助力下，闪耀世界科技舞台，为国家的繁荣与发展注入源源不断的动力。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
长春光机所负责的是国产光刻机的物镜系统, 承担光源攻关任务的是科益虹源，光电院孵化的公司。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
2023年传的国产SSA800/10W的28nm光刻机光源功率只能达到10W，还没有达到2004年ASML浸没式光刻机1900i的40W 4KHz水平，国产光刻机要达到量产标准大致上也得达到20年前ASML第一代浸没式光刻机的水平，但很可惜目前仅有10W的SSA800也只能是最初步的Alpha认证机，至少要提升到40W才能称为满足最基本要求的量产机。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
2024年9月中，工信部有关于光刻机以及其他芯片制造设备的指导目录 ，其公布的技术指标就是ASML15年前的水平。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
长春光机所的激光功率和ASML的还差1个数量级，距离实际应用还有很长的路要走，技术差距大约是15年。
Re: 中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
1999年，长春光机所和长春物理所合并……因为当时物理所没有应用项目，纯耗粮食的单位，中科院已经开不出工资了。。。中科院在长春原本有四个研究所，光机所、应化所、物理所、地理所。1990年代科研经费困难，很多研究所的日子都不好过。光机所和应化所都有应用项目，都有创收能力，这个不太担心；地理所借着研究盐碱地项目的名义去查干花种地，真的打了粮食回来养活自己，勉强熬了过去；物理所全是理论研究，不打粮食，中科院实在养活不起，一开始以为要撤销了，后来终于被光机所给合并了过去。物理所被光机所合并后，人迁走，地皮（位于新民广场西南角）卖了盖商场，先是家乐福，后来是啥来着，反正都没开起来，一直荒着。说来也奇怪，长春的任何一个转盘广场的西南角位置商铺都不旺，只有人民广场西南角的市公安局和建设广场西南角的戏曲学校能坐得住（但这俩不是商铺）。也许真和五行生克有关呢，西南角是金火，得公安局这种“煞气”重的，或是学校这种“阳气”旺的能镇住。